台湾氮化炉电话

湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），***制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。

辉光放电进行渗氮的工艺，与气体渗氮相比渗入速度快。由于离子氮化法利用了离子化了的气体的溅射作用，因而可显著地缩短处理时间(离子渗氮的时间仅为普通气体渗氮时间的1/3~1/5)。

辉光离子氮化作为七十年代兴起的一种新型渗氮方法与一般的气体渗氮相比，辉光离子渗氮的特点有：渗氮速度较快，可适当缩短渗氮周期，离子氮化时间短，能缩短到气体氮化时间的1/3～2/3。电容耦合穿过绝缘材料或空间，电极就不再限于导电材料，可以溅射任何材料，因此射频辉光放电广泛用于绝缘或介质材料的溅射沉积镀膜。渗氮层脆性小，离子氮化表面形成的白层很薄，甚至没有，另外引起的变形小，特别适宜于形状复杂的精密零件。

辉光离子渗氮的特点有：劳动条件有所改善，无公害、离子渗氮处理在很低的压力下进行，排出的废气极1少。次大气压辉光放电技术目前可用于低温材料、生物材料、异型材料的表面亲水处理和表面接枝、表面聚合、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成等工艺。气源为氮气、氢气和氨气，基本上无***物质产生。可以适用于各种材料，包括要求氮化温度高的不锈钢、耐热钢，以及氮化温度较低的工模具(工具钢)和精密零件，而低温氮化对气体氮化来说是相当困难的

射频磁控溅射气体放电时，由于射频靶电源输出交变高频正弦电压波形，致使电子碰撞工作气体的几率大为增多，工作气体离化率高，等离子阻抗低，射频磁控溅射膜层沉积速率为二极射频溅射的数倍。该辉光离子渗氮炉包括内隔热屏，在内隔热屏内壁上装有发热体，发热体与电极间采用螺栓联接，发热体与内壁由陶瓷绝缘体隔离绝缘，绝缘体由螺栓固定在隔热屏内壁上。辉光放电的特征是电流强度较小（约几毫安），温度不高，故电管内有特殊的亮区和暗区，呈现瑰丽的发光现象。 。