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发布时间:2020-02-13 08:14:32
湖北丰热科技有限公司(原武汉离子热处理研究所),***制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业;是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉,并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
在运行的射频辉光放电等离子体中,由于离子和电子迁移率的不同将导致阴极负偏压的形成,在阴极表面建立一个直流负偏压是进行射频溅射工艺的必要条件。两个面积相等的电极置于射频辉光放电等离子体中,不可能建立阴极靶表面的负偏压,不可能产生溅射。
湖北丰热科技有限公司(原武汉离子热处理研究所),***制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业;是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉,并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
将两个面积不相等的电极置于射频(例如13.56MHZ)辉光放电离子体中形成非对称放电,面积小的那个电容耦合阴极有可能形成并建立阴极靶表面的负偏压,并能产生溅射。?电容耦合型射频(RF)放电电极自给偏压的形成,可以防止绝缘层表面正电荷的积累,有助于射频放电的维持。阴极靶表面的“自生负偏压”的数值可以近似等于射频溅射电压的幅值,河北氮化炉,***1高时可达千伏量级。
湖北丰热科技有限公司(原武汉离子热处理研究所),进口离子氮化炉,***制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业;是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉,真空离子氮化炉,并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
射频磁控溅射气体放电时,由于射频靶电源输出交变高频正弦电压波形,小型离子氮化炉,致使电子碰撞工作气体的几率大为增多,工作气体离化率高,等离子阻抗低,射频磁控溅射膜层沉积速率为二极射频溅射的数倍。辉光放电的特征是电流强度较小(约几毫安),温度不高,故电管内有特殊的亮区和暗区,呈现瑰丽的发光现象。 。
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